Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth

Los primeros sistemas estudiados con operando SXRD han sido elegidos por su qum̕ica simple y porque ya se haba̕n caracterizado ampliamente con caracterizaciones electroqum̕icas y espectroscp̤icas estǹdar. Al realizar el operando SXRD, hemos sido capaces de abordar varias preguntas abiertas sobre el...

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Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Další autoři: Giaccherini Andrea, Felici Roberto, Innocenti Massimo, InTech
Médium: Kniha
Jazyk:angličtina
Témata:
On-line přístup:Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth
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