Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth

Los primeros sistemas estudiados con operando SXRD han sido elegidos por su qum̕ica simple y porque ya se haba̕n caracterizado ampliamente con caracterizaciones electroqum̕icas y espectroscp̤icas estǹdar. Al realizar el operando SXRD, hemos sido capaces de abordar varias preguntas abiertas sobre el...

Whakaahuatanga katoa

I tiakina i:
Ngā taipitopito rārangi puna kōrero
Ētahi atu kaituhi: Giaccherini Andrea, Felici Roberto, Innocenti Massimo, InTech
Hōputu: Pukapuka
Reo:Ingarihi
Ngā marau:
Urunga tuihono:Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth
Tags: Tāpirihia he Tūtohu
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Ngā tūemi rite