Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth
Los primeros sistemas estudiados con operando SXRD han sido elegidos por su qum̕ica simple y porque ya se haba̕n caracterizado ampliamente con caracterizaciones electroqum̕icas y espectroscp̤icas estǹdar. Al realizar el operando SXRD, hemos sido capaces de abordar varias preguntas abiertas sobre el...
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|---|---|
| Formato: | Livro |
| Idioma: | inglês |
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| Acesso em linha: | Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth |
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