Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth

Los primeros sistemas estudiados con operando SXRD han sido elegidos por su qum̕ica simple y porque ya se haba̕n caracterizado ampliamente con caracterizaciones electroqum̕icas y espectroscp̤icas estǹdar. Al realizar el operando SXRD, hemos sido capaces de abordar varias preguntas abiertas sobre el...

Olles dieđut

Furkejuvvon:
Bibliográfalaš dieđut
Eará dahkkit: Giaccherini Andrea, Felici Roberto, Innocenti Massimo, InTech
Materiálatiipa: Girji
Giella:eaŋgalasgiella
Fáttát:
Liŋkkat:Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth
Fáddágilkorat: Lasit fáddágilkoriid
Eai fáddágilkorat, Lasit vuosttaš fáddágilkora!

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