Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth

Los primeros sistemas estudiados con operando SXRD han sido elegidos por su qum̕ica simple y porque ya se haba̕n caracterizado ampliamente con caracterizaciones electroqum̕icas y espectroscp̤icas estǹdar. Al realizar el operando SXRD, hemos sido capaces de abordar varias preguntas abiertas sobre el...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
مؤلفون آخرون: Giaccherini Andrea, Felici Roberto, Innocenti Massimo, InTech
التنسيق: كتاب
اللغة:الإنجليزية
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!