Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth

Los primeros sistemas estudiados con operando SXRD han sido elegidos por su qum̕ica simple y porque ya se haba̕n caracterizado ampliamente con caracterizaciones electroqum̕icas y espectroscp̤icas estǹdar. Al realizar el operando SXRD, hemos sido capaces de abordar varias preguntas abiertas sobre el...

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Detalles Bibliográficos

Otros Autores:	Giaccherini Andrea, Felici Roberto, Innocenti Massimo, InTech
Formato:	Libro
Lenguaje:	inglés
Materias:	Nanociencia Nanotecnologa̕ Electroqum̕ica EspectroscopƯ̕a Nanoscience Nanotechnology Electrochemistry Spectroscopy estequiometra̕ voltametra̕ stoichiometry voltammetry
Acceso en línea:	Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!