Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth

Los primeros sistemas estudiados con operando SXRD han sido elegidos por su qum̕ica simple y porque ya se haba̕n caracterizado ampliamente con caracterizaciones electroqum̕icas y espectroscp̤icas estǹdar. Al realizar el operando SXRD, hemos sido capaces de abordar varias preguntas abiertas sobre el...

תיאור מלא

מידע ביבליוגרפי

מחברים אחרים:	Giaccherini Andrea, Felici Roberto, Innocenti Massimo, InTech
פורמט:	ספר
שפה:	אנגלית
נושאים:	Nanociencia Nanotecnologa̕ Electroqum̕ica EspectroscopƯ̕a Nanoscience Nanotechnology Electrochemistry Spectroscopy estequiometra̕ voltametra̕ stoichiometry voltammetry
גישה מקוונת:	Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth
תגים:	הוספת תג אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!