Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth

Los primeros sistemas estudiados con operando SXRD han sido elegidos por su qum̕ica simple y porque ya se haba̕n caracterizado ampliamente con caracterizaciones electroqum̕icas y espectroscp̤icas estǹdar. Al realizar el operando SXRD, hemos sido capaces de abordar varias preguntas abiertas sobre el...

Ամբողջական նկարագրություն

Պահպանված է:
Մատենագիտական մանրամասներ
Այլ հեղինակներ: Giaccherini Andrea, Felici Roberto, Innocenti Massimo, InTech
Ձևաչափ: Գիրք
Լեզու:անգլերեն
Խորագրեր:
Առցանց հասանելիություն:Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth
Ցուցիչներ: Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!