Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth

Los primeros sistemas estudiados con operando SXRD han sido elegidos por su qum̕ica simple y porque ya se haba̕n caracterizado ampliamente con caracterizaciones electroqum̕icas y espectroscp̤icas estǹdar. Al realizar el operando SXRD, hemos sido capaces de abordar varias preguntas abiertas sobre el...

Olles dieđut

Bibliográfalaš dieđut

Eará dahkkit:	Giaccherini Andrea, Felici Roberto, Innocenti Massimo, InTech
Materiálatiipa:	Girji
Giella:	eaŋgalasgiella
Fáttát:	Nanociencia Nanotecnologa̕ Electroqum̕ica EspectroscopƯ̕a Nanoscience Nanotechnology Electrochemistry Spectroscopy estequiometra̕ voltametra̕ stoichiometry voltammetry
Liŋkkat:	Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth
Fáddágilkorat:	Lasit fáddágilkoriid Eai fáddágilkorat, Lasit vuosttaš fáddágilkora!