Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth

Los primeros sistemas estudiados con operando SXRD han sido elegidos por su qum̕ica simple y porque ya se haba̕n caracterizado ampliamente con caracterizaciones electroqum̕icas y espectroscp̤icas estǹdar. Al realizar el operando SXRD, hemos sido capaces de abordar varias preguntas abiertas sobre el...

Повний опис

Бібліографічні деталі

Інші автори:	Giaccherini Andrea, Felici Roberto, Innocenti Massimo, InTech
Формат:	Книга
Мова:	Англійська
Предмети:	Nanociencia Nanotecnologa̕ Electroqum̕ica EspectroscopƯ̕a Nanoscience Nanotechnology Electrochemistry Spectroscopy estequiometra̕ voltametra̕ stoichiometry voltammetry
Онлайн доступ:	Operando structural characterization of the E-ALD process ultra-thin films growth
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!