Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
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| Format: | Book |
| Language: | Spanish |
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| Online Access: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
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| Summary: | Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por muestras de acero 1020 y de cobre colocadas en el ct̀odo de una descarga luminiscente con flujo de argn̤ a una temperatura de 800 ʻC en el ct̀odo. El proceso de sputtering fue llevado a cabo en corriente continua y tambiň con corriente continua pulsante, encontrǹdose una menor tasa de sputtering con este l͠timo tipo de seąl, reflejada en la menor přdida de masa de las muestras utilizadas. Tambiň se determin ̤que cuando se utiliza corriente continua pulsante se requiere una menor potencia en la descarga luminiscente para mantener una misma temperatura en el ct̀odo de la descarga. Mediante anl̀isis de microscopia p̤tica de la superficie de las muestras, tambiň se observa menor homogeneidad superficial en las muestras sometidas a la descarga luminiscente anormal en corriente continua pulsante. |
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| ISBN: | 2357-5328 (Versin̤ electrn̤ica); 0121-1129 (Versin̤ impresa) |