Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC

Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...

Бүрэн тодорхойлолт

-д хадгалсан:
Номзүйн дэлгэрэнгүй
Бусад зохиолчид: Rojas Sanchž Cšar Enrique, Sarmiento Santos Armando, Vera Lp̤ez Enrique, Universidad Pedagg̤ica y Tecnolg̤ica de Colombia - UPTC
Формат: Ном
Хэл сонгох:испани
Нөхцлүүд:
Онлайн хандалт:Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Шошгууд: Шошго нэмэх
Шошго байхгүй, Энэхүү баримтыг шошголох эхний хүн болох!