Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
সংরক্ষণ করুন:
| অন্যান্য লেখক: | , , , |
|---|---|
| বিন্যাস: | গ্রন্থ |
| ভাষা: | স্প্যানিশ |
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|