Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
Zapisane w:
| Kolejni autorzy: | , , , |
|---|---|
| Format: | Książka |
| Język: | hiszpański |
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|