Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
محفوظ في:
| مؤلفون آخرون: | , , , |
|---|---|
| التنسيق: | كتاب |
| اللغة: | الإسبانية |
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
كن أول من يترك تعليقا!