Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
Tallennettuna:
| Muut tekijät: | , , , |
|---|---|
| Aineistotyyppi: | Kirja |
| Kieli: | espanja |
| Aiheet: | |
| Linkit: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
| Tagit: |
Lisää tagi
Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!
|
Lisää ensimmäinen kommentti!