Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC

Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...

Description complète

Enregistré dans:
Détails bibliographiques
Autres auteurs: Rojas Sanchž Cšar Enrique, Sarmiento Santos Armando, Vera Lp̤ez Enrique, Universidad Pedagg̤ica y Tecnolg̤ica de Colombia - UPTC
Format: Livre
Langue:espagnol
Sujets:
Accès en ligne:Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Tags: Ajouter un tag
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!