Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC

Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...

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Detalles Bibliográficos
Outros autores: Rojas Sanchž Cšar Enrique, Sarmiento Santos Armando, Vera Lp̤ez Enrique, Universidad Pedagg̤ica y Tecnolg̤ica de Colombia - UPTC
Formato: Libro
Idioma:Lingua castelá
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Acceso en liña:Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
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