Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
שמור ב:
| מחברים אחרים: | , , , |
|---|---|
| פורמט: | ספר |
| שפה: | ספרדית |
| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
| תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|
היה/י הראשונ/ה לכתוב הערה!