Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
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| フォーマット: | 図書 |
| 言語: | スペイン語 |
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| オンライン･アクセス: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
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