Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC

Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...

Olles dieđut

Furkejuvvon:
Bibliográfalaš dieđut
Eará dahkkit: Rojas Sanchž Cšar Enrique, Sarmiento Santos Armando, Vera Lp̤ez Enrique, Universidad Pedagg̤ica y Tecnolg̤ica de Colombia - UPTC
Materiálatiipa: Girji
Giella:espánnjágiella
Fáttát:
Liŋkkat:Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Fáddágilkorat: Lasit fáddágilkoriid
Eai fáddágilkorat, Lasit vuosttaš fáddágilkora!
Lasit vuosttaš kommeantta. Visot kommeanttat leat almmolaččat.!
Čálihuva vuohččan sisa