Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
Shranjeno v:
| Drugi avtorji: | , , , |
|---|---|
| Format: | Knjiga |
| Jezik: | španščina |
| Teme: | |
| Online dostop: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
| Oznake: |
Označite
Brez oznak, prvi označite!
|
Komentirajte kot prvi!