Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC

Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Rojas Sanchž Cšar Enrique, Sarmiento Santos Armando, Vera Lp̤ez Enrique, Universidad Pedagg̤ica y Tecnolg̤ica de Colombia - UPTC
Format: Buch
Sprache:Spanisch
Schlagworte:
Online-Zugang:Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!