Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterizacin̤ en el ct̀odo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rp̀idas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
Պահպանված է:
| Այլ հեղինակներ: | , , , |
|---|---|
| Ձևաչափ: | Գիրք |
| Լեզու: | իսպաներեն |
| Խորագրեր: | |
| Առցանց հասանելիություն: | Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 ʻC |
| Ցուցիչներ: |
Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
|