Propiedades morfolg̤icas y estructurales de recubrimientos nitruro de titanio aluminio producidos por magnetron sputtering tro̕do

Se crecieron recubrimientos de TixAl1-xN empleando la tčnica de magnetron sputtering tro̕do, variando el voltaje de polarizacin̤ entre -40 V y -150V. Por medio de espectroscopa̕ de energa̕ dispersiva, difraccin̤ de rayos x y microscopa̕ de fuerza atm̤ica, se analiz ̤la influencia del voltaje de pol...

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Άλλοι συγγραφείς: Devia D M, Restrepo Parra E, Vľez Restrepo J M, Universidad EAFIT
Μορφή: Βιβλίο
Γλώσσα:Αγγλικά
Θέματα:
Διαθέσιμο Online:Propiedades morfolg̤icas y estructurales de recubrimientos nitruro de titanio aluminio producidos por magnetron sputtering tro̕do
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020 |a 2256-4314 (Versin̤ electrn̤ica); 1794-9165 (Versin̤ impresa) 
022
040 |a CO-BoINGC 
041 0 |a eng 
245 1 0 |a Propiedades morfolg̤icas y estructurales de recubrimientos nitruro de titanio aluminio producidos por magnetron sputtering tro̕do 
246 |a Structural and Morphological Properties of Titanium Aluminum Nitride Coatings Produced by Triode Magnetron Sputtering 
264 |a Bogot ̀(Colombia) :  |b Revista VirtualPRO,  |c 2020 
520 3 |a Se crecieron recubrimientos de TixAl1-xN empleando la tčnica de magnetron sputtering tro̕do, variando el voltaje de polarizacin̤ entre -40 V y -150V. Por medio de espectroscopa̕ de energa̕ dispersiva, difraccin̤ de rayos x y microscopa̕ de fuerza atm̤ica, se analiz ̤la influencia del voltaje de polarizacin̤ sobre las propiedades morfolg̤icas y estructurales de los recubrimientos. A medida que el voltaje bias se increment,̤ se observ ̤un aumento en el porcentaje atm̤ico de Al, compitiendo con la concentracin̤ de Ti y produciendo cambios estructurales. A bajas concentraciones de Al, la pelc̕ula exhibi ̤una estructura cristalina FCC; sin embargo, a medida que le porcentaje de Al disminuy,̤ se pudo detectar una mezcla de fases FCC y HCP. Por otro lado, el incremento en el voltaje de polarizacin̤ produjo una disminucin̤ en el espesor de las pelc̕ulas, debido al aumento en el nm͠ero de colisiones. Adems̀, el tamaǫ de grano y la rugosidad se vieron fuertemente afectados por el voltaje bias. 
650 \ \ |a Aluminio 
650 \ \ |a EspectroscopƯ̕a 
650 \ \ |a Interacciones atm̤icas 
650 \ \ |a Materiales de recubrimiento 
650 \ \ |a Recubrimientos no metl̀icos 
650 \ \ |a Aluminum 
650 \ \ |a Spectroscopy 
650 \ \ |a Atomic interactions 
650 \ \ |a Coating materials 
650 \ \ |a Nonmetallic coatings 
650 \ \ |a TiAlN; Voltaje de polarizacin̤; Sputtering; Porcentaje atm̤ico; XRD 
650 \ \ |a TiAlN; Bias voltage; Sputtering; Atomic percentage; XRD. 
700 \ \ |a Devia D M 
700 \ \ |a Restrepo Parra E 
700 \ \ |a Vľez Restrepo J M  
700 \ \ |a Universidad EAFIT  
856 |z Propiedades morfolg̤icas y estructurales de recubrimientos nitruro de titanio aluminio producidos por magnetron sputtering tro̕do  |u https://virtualpro.unach.elogim.com/biblioteca/structural-and-morphological-properties-of-titanium-aluminum-nitride-coatings-produced-by-triode-magnetron-sputtering