Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC
Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento...
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| フォーマット: | 図書 |
| 言語: | スペイン語 |
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| オンライン･アクセス: | Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC |
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| 要約: | Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento de las seąles de los espectros angostos de XPS y los patrones de XRD, se determino la formacin̤ de los compuestos TiN (Nitruro de Titanio), TiC (Carburo de Titanio) y TiCN (carbonitruro de titanio) en la fase cristalogrf̀ica fm-3m correspondiente a las fases FCC de estos compuestos sintetizados. |
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| ISBN: | 2256-4314 (Versin̤ electrn̤ica); 1794-9165 (Versin̤ impresa) |