Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC - Arango Pedro Još; Devia D M; Mesa Fernando; Universidad EAFIT
Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento de las seąles de los espectros angostos de XPS y los patrones de XRD, se determino la formacin̤ de los compuestos TiN (Nitruro de Titanio), TiC (Carburo de Titanio) y TiCN (carbonitruro de titanio) en la fase cristalogrf̀ica fm-3m correspondiente a las fases FCC de estos compuestos sintetizados.