Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC

Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Kolejni autorzy: Arango Pedro Još, Devia D M, Mesa Fernando, Universidad EAFIT
Format: Książka
Język:hiszpański
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!