Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC
Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento...
محفوظ في:
| مؤلفون آخرون: | , , , |
|---|---|
| التنسيق: | كتاب |
| اللغة: | الإسبانية |
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|