Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC
Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento...
সংরক্ষণ করুন:
| অন্যান্য লেখক: | , , , |
|---|---|
| বিন্যাস: | গ্রন্থ |
| ভাষা: | স্প্যানিশ |
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|