Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC
Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento...
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| Formato: | Libro |
| Lenguaje: | español |
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| Acceso en línea: | Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC |
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