Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC

Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento...

Deskribapen osoa

Gorde:
Xehetasun bibliografikoak
Beste egile batzuk: Arango Pedro Još, Devia D M, Mesa Fernando, Universidad EAFIT
Formatua: Liburua
Hizkuntza:gaztelania
Gaiak:
Sarrera elektronikoa:Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC
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