Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC
Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento...
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| フォーマット: | 図書 |
| 言語: | スペイン語 |
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| オンライン･アクセス: | Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC |
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