Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC
Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento...
Збережено в:
| Інші автори: | , , , |
|---|---|
| Формат: | Книга |
| Мова: | Іспанська |
| Предмети: | |
| Онлайн доступ: | Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|