Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC

Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la tčnica de deposicin̤ en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120 ʻC, con intervalos de 5 ʻC. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả khác: Arango Pedro Još, Devia D M, Mesa Fernando, Universidad EAFIT
Định dạng: Sách
Ngôn ngữ:Tiếng Tây Ban Nha
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!