Desarrollo de un sistema automatizado y de control remoto para un reactor mono-evaporador de arco pulsado
Este documento describe brevemente, a manera de introduccin̤, las caracters̕ticas y usos principales de los recubrimientos superficiales que se elaboran por la tčnica PAPVD (Plasma Asisted Physical Vapour Deposition). Asimismo, describe la funcin̤ del sistema de automatizado, el cual tiene como fin...
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|---|---|
| Format: | Book |
| Language: | Spanish |
| Subjects: | |
| Online Access: | Desarrollo de un sistema automatizado y de control remoto para un reactor mono-evaporador de arco pulsado |
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|
MARC
| LEADER | 00000nam a22000004a 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | vpro4094 | ||
| 005 | 20201223000000.0 | ||
| 008 | 121205s2009 ck # g## #001 0#spa#d | ||
| 020 | |||
| 022 | |a 0120-2650 | ||
| 040 | |a CO-BoINGC | ||
| 041 | 0 | |a spa | |
| 245 | 1 | 0 | |a Desarrollo de un sistema automatizado y de control remoto para un reactor mono-evaporador de arco pulsado |
| 246 | |a Development of an automated remote-controlled system for a pulsed arc monoevaporator reactor | ||
| 264 | |a Bogot ̀(Colombia) : |b Revista VirtualPRO, |c 2009 | ||
| 520 | 3 | |a Este documento describe brevemente, a manera de introduccin̤, las caracters̕ticas y usos principales de los recubrimientos superficiales que se elaboran por la tčnica PAPVD (Plasma Asisted Physical Vapour Deposition). Asimismo, describe la funcin̤ del sistema de automatizado, el cual tiene como finalidad controlar variables del proceso de deposicin̤ de pelc̕ulas delgadas, tales como presin̤, voltaje bias, flujo de gases, velocidad del movimiento de rotacin̤ del porta muestra y temperatura. Se explica la manipulacin̤ de las variables mencionadas anteriormente mediante la interfase LabVIEW para controlar la deposicin̤ de los metales de recubrimiento dentro del reactor, realizando el ajuste adecuado de las variables mediante la utilizacin̤ de lg̤ica y control difuso, los cuales permitieron mantener un ajuste dentro del valor de cada variable por debajo del 4% de su valor real. En conclusin̤, este mecanismo de automatizacin̤ permite reducir el tiempo de produccin̤, estandariza el proceso de deposicin̤ y se da una supervisin̤ constante de estas variables; adems̀, es una herramienta que permite que el control del reactor tambiň se pueda realizar va̕ control remoto mediante la utilizacin̤ de Internet. | |
| 650 | \ | \ | |a Equipo de control automt̀ico |
| 650 | \ | \ | |a Reactores qum̕icos |
| 650 | \ | \ | |a Procesos industriales |
| 650 | \ | \ | |a Automatic control equipment |
| 650 | \ | \ | |a Chemical reactors |
| 650 | \ | \ | |a Industrial processes |
| 650 | \ | \ | |a Reactor monoevaporador |
| 650 | \ | \ | |a Instrumentacin̤ |
| 650 | \ | \ | |a Flujo de gases |
| 650 | \ | \ | |a Velocidad del movimiento de rotacin̤ |
| 650 | \ | \ | |a Deposicin̤ de los metales |
| 650 | \ | \ | |a Monoevaporator reactor |
| 650 | \ | \ | |a Instrumentation |
| 650 | \ | \ | |a Gas flow velocity of the rotation movement |
| 650 | \ | \ | |a The deposition of metals |
| 700 | \ | \ | |a Castillo H. |
| 700 | \ | \ | |a Echeverry A. M. |
| 700 | \ | \ | |a Zapata A. F. |
| 700 | \ | \ | |a Devia A. |
| 700 | \ | \ | |a Sociedad Colombiana de Fs̕ica |
| 856 | |z Desarrollo de un sistema automatizado y de control remoto para un reactor mono-evaporador de arco pulsado |u https://virtualpro.unach.elogim.com/biblioteca/desarrollo-de-un-sistema-automatizado-y-de-control-remoto-para-un-reactor-mono-evaporador-de-arco-pulsado | ||