Desarrollo de un sistema automatizado y de control remoto para un reactor mono-evaporador de arco pulsado - Castillo H.; Echeverry A. M.; Zapata A. F.; Devia A.; Sociedad Colombiana de Fs̕ica
Este documento describe brevemente, a manera de introduccin̤, las caracters̕ticas y usos principales de los recubrimientos superficiales que se elaboran por la tčnica PAPVD (Plasma Asisted Physical Vapour Deposition). Asimismo, describe la funcin̤ del sistema de automatizado, el cual tiene como finalidad controlar variables del proceso de deposicin̤ de pelc̕ulas delgadas, tales como presin̤, voltaje bias, flujo de gases, velocidad del movimiento de rotacin̤ del porta muestra y temperatura. Se explica la manipulacin̤ de las variables mencionadas anteriormente mediante la interfase LabVIEW para controlar la deposicin̤ de los metales de recubrimiento dentro del reactor, realizando el ajuste adecuado de las variables mediante la utilizacin̤ de lg̤ica y control difuso, los cuales permitieron mantener un ajuste dentro del valor de cada variable por debajo del 4% de su valor real. En conclusin̤, este mecanismo de automatizacin̤ permite reducir el tiempo de produccin̤, estandariza el proceso de deposicin̤ y se da una supervisin̤ constante de estas variables; adems̀, es una herramienta que permite que el control del reactor tambiň se pueda realizar va̕ control remoto mediante la utilizacin̤ de Internet.