Desarrollo de un sistema automatizado y de control remoto para un reactor mono-evaporador de arco pulsado

Este documento describe brevemente, a manera de introduccin̤, las caracters̕ticas y usos principales de los recubrimientos superficiales que se elaboran por la tčnica PAPVD (Plasma Asisted Physical Vapour Deposition). Asimismo, describe la funcin̤ del sistema de automatizado, el cual tiene como fin...

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書誌詳細

その他の著者:	Castillo H., Echeverry A. M., Zapata A. F., Devia A., Sociedad Colombiana de Fs̕ica
フォーマット:	図書
言語:	スペイン語
主題:	Equipo de control automt̀ico Reactores qum̕icos Procesos industriales Automatic control equipment Chemical reactors Industrial processes Reactor monoevaporador Instrumentacin̤ Flujo de gases Velocidad del movimiento de rotacin̤ Deposicin̤ de los metales Monoevaporator reactor Instrumentation Gas flow velocity of the rotation movement The deposition of metals
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