Crecimiento y caracterizacin̤ de pelc̕ulas de x̤ido de zinc por sputtering para su potencial aplicacin̤ en fotocatl̀isis
El uso de pelc̕ulas fotocatalt̕icas presenta ciertas ventajas sobre el uso de fotocatalizadores en polvo para el desarrollo de nuevas y mejores tčnicas de aplicacin̤ prc̀tica. Aunque se han hecho esfuerzos continuos por mejorar la calidad de pelc̕ulas de x̤ido de zinc (ZnO) para diversos usos, es n...
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| Other Authors: | , |
|---|---|
| Format: | Book |
| Language: | Spanish |
| Subjects: | |
| Online Access: | Crecimiento y caracterizacin̤ de pelc̕ulas de x̤ido de zinc por sputtering para su potencial aplicacin̤ en fotocatl̀isis |
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MARC
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| 245 | 1 | 0 | |a Crecimiento y caracterizacin̤ de pelc̕ulas de x̤ido de zinc por sputtering para su potencial aplicacin̤ en fotocatl̀isis |
| 246 | |a Growing and characterisation of zinc oxide films by sputtering for its potential application in photocatalysis | ||
| 264 | |a Bogot ̀(Colombia) : |b Revista VirtualPRO, |c 2016 | ||
| 520 | 3 | |a El uso de pelc̕ulas fotocatalt̕icas presenta ciertas ventajas sobre el uso de fotocatalizadores en polvo para el desarrollo de nuevas y mejores tčnicas de aplicacin̤ prc̀tica. Aunque se han hecho esfuerzos continuos por mejorar la calidad de pelc̕ulas de x̤ido de zinc (ZnO) para diversos usos, es necesario explorar tčnicas de deps̤ito novedosas y relacionar las condiciones de trabajo con las caracters̕ticas de las pelc̕ulas y su actividad fotocatalt̕ica.Esta investigacin̤ es un estudio sistemt̀ico sobre el crecimiento de pelc̕ulas delgadas de ZnO utilizando el mťodo de pulverizacin̤ catd̤ica (sputtering) en atms̤fera de argn̤. Las pelc̕ulas se prepararon a partir de blancos de ZnO sobre sustratos de vidrio. Las condiciones de deps̤ito exploradas se encuentran en el intervalo de potencia (100-300 W), la temperatura del sustrato (23-500 ʻC), el flujo de gas de proceso (15-35 SCCM) y el tiempo de deps̤ito (5-60 min). Empleando las tčnicas de caracterizacin̤ de difraccin̤ de rayos X (DRX) y microscopa̕ electrn̤ica de transmisin̤ (MET), se determinaron las caracters̕ticas estructurales y el tamaǫ de partc̕ula. La morfologa̕ se observ ̤utilizando microscopa̕ electrn̤ica de barrido (MEB) y microscopa̕ de fuerza atm̤ica (MFA). | |
| 650 | \ | \ | |a Fotocatl̀isis |
| 650 | \ | \ | |a Fisicoqum̕ica |
| 650 | \ | \ | |a Qum̕ica |
| 650 | \ | \ | |a Fotoqum̕ica |
| 650 | \ | \ | |a Photocatalysis |
| 650 | \ | \ | |a Chemistry |
| 650 | \ | \ | |a physical and theoretical |
| 650 | \ | \ | |a Chemistry |
| 650 | \ | \ | |a Photochemistry |
| 650 | \ | \ | |a Fotocatalizadores |
| 650 | \ | \ | |a Pelc̕ulas fotocatalt̕icas |
| 650 | \ | \ | |a <U+00D3>xido de zinc |
| 650 | \ | \ | |a Pulverizacin̤ catd̤ica |
| 650 | \ | \ | |a Caracterizacin̤ |
| 650 | \ | \ | |a Propiedades p̤ticas |
| 650 | \ | \ | |a Banda prohibida |
| 650 | \ | \ | |a Actividad fotocatalt̕ica |
| 650 | \ | \ | |a Fotocatalizadores |
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| 650 | \ | \ | |a Actividad fotocatalt̕ica |
| 700 | \ | \ | |a Ahumada Lazo Rubň |
| 700 | \ | \ | |a Universidad Autn̤oma de Nuevo Len̤ (UANL) |
| 856 | |z Crecimiento y caracterizacin̤ de pelc̕ulas de x̤ido de zinc por sputtering para su potencial aplicacin̤ en fotocatl̀isis |u https://virtualpro.unach.elogim.com/biblioteca/crecimiento-y-caracterizacion-de-peliculas-de-oxido-de-zinc-por-sputtering-para-su-potencial-aplicacion-en-fotocatalisis | ||