Pulse-electroplating , process parameters and their influence on the formed microstructure

En esta investigacin̤ se produjeron capas de nq̕uel con un grosor de unas pocas decenas de micras mediante electrodeposicin̤ pulsada empleando dos baǫs electrolt̕icos (I y II). Se estudi ̤la influencia de la temperatura y la densidad de corriente sobre la microestructura obtenida usando el baǫ I,...

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Dades bibliogràfiques
Altres autors: Melciu Daniel, Maidee Navin, Chalmers University of Technology
Format: Llibre
Idioma:anglès
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Descripció
Sumari:En esta investigacin̤ se produjeron capas de nq̕uel con un grosor de unas pocas decenas de micras mediante electrodeposicin̤ pulsada empleando dos baǫs electrolt̕icos (I y II). Se estudi ̤la influencia de la temperatura y la densidad de corriente sobre la microestructura obtenida usando el baǫ I, mientras que se utiliz ̤el baǫ II para analizar el efecto de la concentracin̤ de sulfamato de nq̕uel y la densidad de corriente. Asimismo, se recubrieron fibras de poliamida incluidas en el material HybrixTM valiňdose de esta misma tčnica. Se examin ̤el nq̕uel electrodepositado mediante XRD y SEM. Con ayuda de la tčnica EBSD, se obtuvieron mapas de orientacin̤, figuras de polos y figuras de polos inversas para todas las muestras.