Pulse-electroplating , process parameters and their influence on the formed microstructure

Pulse-electroplating , process parameters and their influence on the formed microstructure

En esta investigacin̤ se produjeron capas de nq̕uel con un grosor de unas pocas decenas de micras mediante electrodeposicin̤ pulsada empleando dos baǫs electrolt̕icos (I y II). Se estudi ̤la influencia de la temperatura y la densidad de corriente sobre la microestructura obtenida usando el baǫ I,...

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Bibliografiske detaljer
Andre forfattere: Melciu Daniel, Maidee Navin, Chalmers University of Technology
Format: Bog
Sprog:engelsk
Fag:
Qum̕ica
Fisicoqum̕ica
Ciencias qum̕icas
Chemistry
physical and theoretical
Chemical sciences
Recubrimientos
Recubrimientos metl̀icos
Electroplateado
Electrodeposicin̤
Niquelado
electrodeposicin̤ pulsada
Textura
Microestructura
Estructura nanocristalina
EBSD
Coatings
Metal coatings
Electroplating
Electrodeposition
Nickel plating
Pulsed electrodeposition
Texture
Microstructure
Nanocrystalline structure
Online adgang:Pulse-electroplating , process parameters and their influence on the formed microstructure
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Beskrivelse
Summary:En esta investigacin̤ se produjeron capas de nq̕uel con un grosor de unas pocas decenas de micras mediante electrodeposicin̤ pulsada empleando dos baǫs electrolt̕icos (I y II). Se estudi ̤la influencia de la temperatura y la densidad de corriente sobre la microestructura obtenida usando el baǫ I, mientras que se utiliz ̤el baǫ II para analizar el efecto de la concentracin̤ de sulfamato de nq̕uel y la densidad de corriente. Asimismo, se recubrieron fibras de poliamida incluidas en el material HybrixTM valiňdose de esta misma tčnica. Se examin ̤el nq̕uel electrodepositado mediante XRD y SEM. Con ayuda de la tčnica EBSD, se obtuvieron mapas de orientacin̤, figuras de polos y figuras de polos inversas para todas las muestras.

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