Pulse-electroplating , process parameters and their influence on the formed microstructure
En esta investigacin̤ se produjeron capas de nq̕uel con un grosor de unas pocas decenas de micras mediante electrodeposicin̤ pulsada empleando dos baǫs electrolt̕icos (I y II). Se estudi ̤la influencia de la temperatura y la densidad de corriente sobre la microestructura obtenida usando el baǫ I,...
I tiakina i:
| Ētahi atu kaituhi: | , , |
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| Hōputu: | Pukapuka |
| Reo: | Ingarihi |
| Ngā marau: | |
| Urunga tuihono: | Pulse-electroplating , process parameters and their influence on the formed microstructure |
| Tags: |
Tāpirihia he Tūtohu
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