Anl̀isis espectroscp̤ico de las pelc̕ulas delgadas de x̤ido de cobre y del plasma producido por deposicin̤ de ls̀er pulsado
Mediante anl̀isis espectroscp̤ico se estudi ̤el plasma y las pelc̕ulas delgadas de cobre obtenidas por la tčnica de deposicin̤ de ls̀er pulsado (PLD). Se utiliz ̤la espectroscopa̕ de emisin̤ p̤tica para analizar los espectros de emisin̤ del plasma de cobre producidos con un ls̀er Nd:YAG de 1064 nm...
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| Format: | Llibre |
| Idioma: | espanyol |
| Matèries: | |
| Accés en línia: | Anl̀isis espectroscp̤ico de las pelc̕ulas delgadas de x̤ido de cobre y del plasma producido por deposicin̤ de ls̀er pulsado |
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|
MARC
| LEADER | 00000nam a22000004a 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | vpro9682 | ||
| 005 | 20201223000000.0 | ||
| 008 | 160310s2016 ck # g## #001 0#spa#d | ||
| 020 | |||
| 022 | |a 0120-2650 | ||
| 040 | |a CO-BoINGC | ||
| 041 | 0 | |a spa | |
| 245 | 1 | 0 | |a Anl̀isis espectroscp̤ico de las pelc̕ulas delgadas de x̤ido de cobre y del plasma producido por deposicin̤ de ls̀er pulsado |
| 246 | |a Spectroscopic analysis of copper oxide thin films and plasma produced by pulsed laser deposition | ||
| 264 | |a Bogot ̀(Colombia) : |b Revista VirtualPRO, |c 2016 | ||
| 520 | 3 | |a Mediante anl̀isis espectroscp̤ico se estudi ̤el plasma y las pelc̕ulas delgadas de cobre obtenidas por la tčnica de deposicin̤ de ls̀er pulsado (PLD). Se utiliz ̤la espectroscopa̕ de emisin̤ p̤tica para analizar los espectros de emisin̤ del plasma de cobre producidos con un ls̀er Nd:YAG de 1064 nm que ablacion ̤el blanco de cobre. La pelc̕ula delgada creci ̤sobre un sustrato amorfo (vidrio) a temperatura ambiente y se vari ̤la presin̤ del argn̤ desde 1,2 Pa hasta 26,6 Pa. Se obtuvieron ln̕eas de cobre neutro y de ion de cobre con una significativa diferencia en sus intensidades, lo que se relaciona con una mayor probabilidad de emisin̤ en el verde y con el color del plasma observado durante la ablacin̤. | |
| 650 | \ | \ | |a Qum̕ica |
| 650 | \ | \ | |a Fisicoqum̕ica |
| 650 | \ | \ | |a Ciencias qum̕icas |
| 650 | \ | \ | |a Chemistry |
| 650 | \ | \ | |a Chemistry |
| 650 | \ | \ | |a physical and theoretical |
| 650 | \ | \ | |a Chemical sciences |
| 650 | \ | \ | |a Recubrimientos |
| 650 | \ | \ | |a Recubrimientos metl̀icos |
| 650 | \ | \ | |a Electroplateado |
| 650 | \ | \ | |a Electrodeposicin̤ |
| 650 | \ | \ | |a Cobreado |
| 650 | \ | \ | |a Deposicin̤ de ls̀er pulsado |
| 650 | \ | \ | |a Ablacin̤ ls̀er |
| 650 | \ | \ | |a Espectroscopa̕ de emisin̤ p̤tica |
| 650 | \ | \ | |a Pelc̕ulas delgadas |
| 650 | \ | \ | |a Coatings |
| 650 | \ | \ | |a Metal coatings |
| 650 | \ | \ | |a Electroplating |
| 650 | \ | \ | |a Electrodeposition |
| 650 | \ | \ | |a Copper |
| 650 | \ | \ | |a Pulsed laser deposition |
| 650 | \ | \ | |a Laser ablation |
| 650 | \ | \ | |a Optical emission spectroscopy |
| 650 | \ | \ | |a Thin films |
| 700 | \ | \ | |a Vera L. A. |
| 700 | \ | \ | |a Přez J. A. |
| 700 | \ | \ | |a Riascos H. |
| 700 | \ | \ | |a Sociedad Colombiana de Fs̕ica |
| 856 | |z Anl̀isis espectroscp̤ico de las pelc̕ulas delgadas de x̤ido de cobre y del plasma producido por deposicin̤ de ls̀er pulsado |u https://virtualpro.unach.elogim.com/biblioteca/analisis-espectroscopico-de-las-peliculas-delgadas-de-oxido-de-cobre-y-del-plasma-producido-por-deposicion-de-laser-pulsado- | ||