Electroless copper deposition using saccharose containing copper methane sulphonate bath with thiourea as stabilizer

La deposicin̤ qum̕ica de cobre se emplea en la fabricacin̤ de circuitos integrados, interconexiones, sistemas microelectromecǹicos y placas de circuitos impresos. Con el fin de lograr un uso a largo plazo de un baǫ qum̕ico para este tipo de deposicin̤, se utiliz ̤una sustancia ambientalmente amiga...

Descripció completa

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Altres autors: Balaramesh P., Rekha S., Venkatesh P., Shanmugan S., International Research Journal of Chemical Science
Format: Llibre
Idioma:anglès
Matèries:
Accés en línia:Electroless copper deposition using saccharose containing copper methane sulphonate bath with thiourea as stabilizer
Etiquetes: Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!