Formulation of novel electroless plating process for Cu and Cu-P alloys
En este estudio se optimiz ̤una nueva formulacin̤ de cobreado qum̕ico con base en sulfato de cobre, formaldehd̕o, hipofosfito de sodio y EDTA+TEA. Se encontr ̤que este baǫ era estable y se mantuvo la operacin̤ por 2 h. Tambiň se percibi ̤que la incorporacin̤ de fs̤foro en la matriz de cobre aument...
সংরক্ষণ করুন:
| অন্যান্য লেখক: | Venkatachalam G, Karthikeyan S., Hitharth M., Sumanjeet K., Narayanan S., Sphinx Knowledge House |
|---|---|
| বিন্যাস: | গ্রন্থ |
| ভাষা: | ইংরেজি |
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | Formulation of novel electroless plating process for Cu and Cu-P alloys |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|
অনুরূপ উপাদানগুলি
অনুরূপ উপাদানগুলি
- Electroless copper deposition using saccharose containing copper methane sulphonate bath with thiourea as stabilizer
- Influence of pH solution on electroless copper plating using sodium hypophosphite as reducing agent
- Comparative study of electroless copper film on different self-assembled monolayers modified ABS substrate
- Application of environment-friendly ligands for alkaline electroless copper plating systems , a comparative study of electroless copper deposition using D-, L- and DL-tartrate as Cu(II) ligands
- Preparation and characterization of copper powders with Sn coating by the electroless plating