Formulation of novel electroless plating process for Cu and Cu-P alloys

En este estudio se optimiz ̤una nueva formulacin̤ de cobreado qum̕ico con base en sulfato de cobre, formaldehd̕o, hipofosfito de sodio y EDTA+TEA. Se encontr ̤que este baǫ era estable y se mantuvo la operacin̤ por 2 h. Tambiň se percibi ̤que la incorporacin̤ de fs̤foro en la matriz de cobre aument...

সম্পূর্ণ বিবরণ

সংরক্ষণ করুন:
গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
অন্যান্য লেখক: Venkatachalam G, Karthikeyan S., Hitharth M., Sumanjeet K., Narayanan S., Sphinx Knowledge House
বিন্যাস: গ্রন্থ
ভাষা:ইংরেজি
বিষয়গুলি:
অনলাইন ব্যবহার করুন:Formulation of novel electroless plating process for Cu and Cu-P alloys
ট্যাগগুলো: ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!