Formulation of novel electroless plating process for Cu and Cu-P alloys

En este estudio se optimiz ̤una nueva formulacin̤ de cobreado qum̕ico con base en sulfato de cobre, formaldehd̕o, hipofosfito de sodio y EDTA+TEA. Se encontr ̤que este baǫ era estable y se mantuvo la operacin̤ por 2 h. Tambiň se percibi ̤que la incorporacin̤ de fs̤foro en la matriz de cobre aument...

Ամբողջական նկարագրություն

Պահպանված է:
Մատենագիտական մանրամասներ
Այլ հեղինակներ: Venkatachalam G, Karthikeyan S., Hitharth M., Sumanjeet K., Narayanan S., Sphinx Knowledge House
Ձևաչափ: Գիրք
Լեզու:անգլերեն
Խորագրեր:
Առցանց հասանելիություն:Formulation of novel electroless plating process for Cu and Cu-P alloys
Ցուցիչներ: Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!