Formulation of novel electroless plating process for Cu and Cu-P alloys

En este estudio se optimiz ̤una nueva formulacin̤ de cobreado qum̕ico con base en sulfato de cobre, formaldehd̕o, hipofosfito de sodio y EDTA+TEA. Se encontr ̤que este baǫ era estable y se mantuvo la operacin̤ por 2 h. Tambiň se percibi ̤que la incorporacin̤ de fs̤foro en la matriz de cobre aument...

Olles dieđut

Furkejuvvon:
Bibliográfalaš dieđut
Eará dahkkit: Venkatachalam G, Karthikeyan S., Hitharth M., Sumanjeet K., Narayanan S., Sphinx Knowledge House
Materiálatiipa: Girji
Giella:eaŋgalasgiella
Fáttát:
Liŋkkat:Formulation of novel electroless plating process for Cu and Cu-P alloys
Fáddágilkorat: Lasit fáddágilkoriid
Eai fáddágilkorat, Lasit vuosttaš fáddágilkora!