Influence of pH solution on electroless copper plating using sodium hypophosphite as reducing agent

En esta investigacin̤ se estudi ̤el efecto del pH de la solucin̤ sobre la deposicin̤ qum̕ica de aleaciones Cu<U+0096>Ni<U+0096>P ricas en cobre empleando hipofosfito de sodio como agente reductor. La velocidad de deposicin̤ se increment ̤con el aumento del pH. Asimismo, la rugosidad y la...

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שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
מחברים אחרים: Anik T., Ebn Touhami M., Himm K., Schireen S., Belkhmima R.A, Abouchane M., Ciss ̌M, Electrochemical Science Group, University of Belgrade
פורמט: ספר
שפה:אנגלית
נושאים:
גישה מקוונת:Influence of pH solution on electroless copper plating using sodium hypophosphite as reducing agent
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סיכום:En esta investigacin̤ se estudi ̤el efecto del pH de la solucin̤ sobre la deposicin̤ qum̕ica de aleaciones Cu<U+0096>Ni<U+0096>P ricas en cobre empleando hipofosfito de sodio como agente reductor. La velocidad de deposicin̤ se increment ̤con el aumento del pH. Asimismo, la rugosidad y la cristalinidad manifiestan una dependencia estrecha de este factor. Se analiz ̤la cinťica de la reaccin̤ mediante voltametra̕ cc̕lica y espectroscopa̕ de impedancia electroqum̕ica.
ISSN:1452-3981