Influence of pH solution on electroless copper plating using sodium hypophosphite as reducing agent

En esta investigacin̤ se estudi ̤el efecto del pH de la solucin̤ sobre la deposicin̤ qum̕ica de aleaciones Cu<U+0096>Ni<U+0096>P ricas en cobre empleando hipofosfito de sodio como agente reductor. La velocidad de deposicin̤ se increment ̤con el aumento del pH. Asimismo, la rugosidad y la...

Descrizione completa

Salvato in:
Dettagli Bibliografici
Altri autori: Anik T., Ebn Touhami M., Himm K., Schireen S., Belkhmima R.A, Abouchane M., Ciss ̌M, Electrochemical Science Group, University of Belgrade
Natura: Libro
Lingua:inglese
Soggetti:
Accesso online:Influence of pH solution on electroless copper plating using sodium hypophosphite as reducing agent
Tags: Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne!!
Descrizione
Riassunto:En esta investigacin̤ se estudi ̤el efecto del pH de la solucin̤ sobre la deposicin̤ qum̕ica de aleaciones Cu<U+0096>Ni<U+0096>P ricas en cobre empleando hipofosfito de sodio como agente reductor. La velocidad de deposicin̤ se increment ̤con el aumento del pH. Asimismo, la rugosidad y la cristalinidad manifiestan una dependencia estrecha de este factor. Se analiz ̤la cinťica de la reaccin̤ mediante voltametra̕ cc̕lica y espectroscopa̕ de impedancia electroqum̕ica.
ISSN:1452-3981